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冷濺射小型磁控濺射儀可在消費品上添加耐磨、裝飾性的涂層

發(fā)布時間: 2024-08-20  點擊次數(shù): 487次
  冷濺射小型磁控濺射儀是一種先進的薄膜沉積設備,采用磁控濺射技術在各種基材上制備高質量、均勻的薄膜。這種技術因其低溫、高效率和出色的膜層控制能力而被廣泛應用于材料科學、電子工程以及表面工程等領域。磁控濺射利用磁場將電子約束在靶材附近的空間內,從而增加電子與工作氣體原子的碰撞幾率,產生更多的離子來轟擊靶材。這個過程會在較低的壓力下發(fā)生,因此被稱為“冷濺射”。離子的轟擊使得靶材原子被逐出并沉積在對面的基片上,形成薄膜。
 

 

  冷濺射小型磁控濺射儀的基本構造:
  1.真空腔室:容納濺射過程,維持必要的高真空環(huán)境。
  2.靶材:作為濺射的材料源,通常固定在腔室的一側。
  3.磁控系統(tǒng):產生磁場,束縛電子在靶材附近,增加碰撞概率,提高濺射效率。
  4.基片支架:固定并可能加熱或偏置基材,以促進薄膜生長。
  5.真空泵系統(tǒng):包括機械泵和分子泵,用于建立和維持真空。
  6.氣體供給系統(tǒng):精確控制工作氣體和反應氣體的流量。
  7.電源:為濺射過程提供穩(wěn)定的能量。
  應用領域:
  1.半導體制造:制備金屬互連層或柵極材料。
  2.光學薄膜:制備反射、抗反射或濾光薄膜。
  3.裝飾性薄膜:在消費品上添加耐磨、裝飾性的涂層。
  4.保護性涂層:為工具或零件添加耐腐蝕或耐磨損的涂層。
  5.光伏產業(yè):制備太陽能電池中的吸光層或導電層。
  冷濺射小型磁控濺射儀的操作與維護:
  1.真空系統(tǒng)維護:定期檢查和保養(yǎng)真空泵,確保其高效運行。
  2.靶材更換:根據(jù)薄膜需求更換不同的靶材。
  3.基材準備:確保基材清潔且正確放置。
  4.濺射參數(shù)優(yōu)化:根據(jù)所需薄膜性質調整電壓、氣壓和濺射時間。
  5.清潔腔室:定期清潔腔室,避免雜質影響薄膜質量。

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